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PCB制程化学品-酸铜电镀 CPA-800工艺
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工艺流程


电镀铜(copper plating)
在化学沉铜层上通过地电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电性/厚度及防止导电电路出现发热和机械缺陷。酸铜电镀在PCB行业电镀中占极为重要的地位,其好坏直接影响电镀铜层的质量和相关机械性能。而有机添加剂是改善电镀液性能非常关键的因素,填充性能与添加剂的成份和浓度密切相关。

酸铜电镀CPA-800系列
CPA-800是优异的光亮镀铜添加剂,可提供优越的分散能力(Throwing power) 以消除镀通孔能力的不足,适合高纵横比的背板、高密度电路板等通迅产品。其电镀铜层结构细密,延展性高,导电性高。可靠性好,通过500次热循环HATs测试及10次漂锡(288oC)测试无铜层断裂不良。
CPA-800 也可应用于盲孔板电镀,镀铜分散能力超过100%。可在高电流密度下操作(最高30ASF),极大提升了电镀的产能。
CPA-800 可用哈氏槽来控管,也可配合CVS技术精确的分析,电镀槽工作液管控方便,避免因操作不稳定而带来的浪费,确保极低的生产成本。
CPA-800 系列产品包含平整剂,有效整平孔粗糙度高的孔壁,镀铜厚度均匀一致,有效解决孔铜不足的问题

电镀操作参数

名  称

工作条件

硫酸铜

65 – 80 g/L

硫酸

190 – 210 g/L

氯离子

40 – 60 mg/L

CPA-800B 光亮剂

15 – 25 mL/L

CPA-800M 开缸剂

0.15 – 0.6 mL/L

电镀液比重

1.18

镀液温度

18 – 30oC, 最佳值25oC

电流密度

10 – 40 ASF,最佳值25 ASF

电压

1 – 4 V

阳极电流密度

10 – 30 ASF

搅拌

空气搅拌


 
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